AMD申請堆疊散熱新專利 效果將非常明顯
隨著2D平面半導(dǎo)體技術(shù)漸入瓶頸，2.5D、3D立體封裝普遍被視為未來大趨勢，AMD Fiji/Vega GPU核心與HBM顯存、Intel Foveros全新封裝、3D NAND閃存等等莫不如此。
但隨著堆疊元器件的增多，集中的熱量如何有效散出去也成了大問題，AMD就悄然申請了一項非常巧妙的專利設(shè)計。
AMD Fiji GPU與HBM顯存
Intel Foveros立體封裝
根據(jù)專利描述，AMD計劃在3D堆棧的內(nèi)存或邏輯芯片中間插入一個熱電效應(yīng)散熱模塊（TEC），原理是利用帕爾貼效應(yīng)（Peltier Effect）。
它也被稱作熱電第二效應(yīng)、溫差電效應(yīng)。由N型、P型半導(dǎo)體材料組成一對熱電偶，通入直流電流后，因電流方向不同，電偶結(jié)點(diǎn)處將產(chǎn)生吸熱和放熱現(xiàn)象。
按照AMD的描述，利用帕爾貼效應(yīng)，位于熱電偶上方和下方的上下內(nèi)存/邏輯芯片，不管哪一個溫度更高，都可以利用熱電偶將熱量吸走，轉(zhuǎn)向溫度更低的一側(cè)，進(jìn)而排走。
不過也有不少問題AMD沒有解釋清楚，比如會不會導(dǎo)致上下的元器件溫度都比較高？熱電偶本身也會耗電發(fā)熱又如何處理？
但總的來說，AMD的這個思路非常新奇巧妙，未來或許會有很光明的前景。
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