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3D NAND技術(shù)閃存問(wèn)世,再也不擔(dān)心速度了!

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  8月6日閃迪和東芝兩家閃存廠商宣布了旗下最新3D NAND技術(shù)的閃存芯片即將問(wèn)世,這款號(hào)稱(chēng)世界第一款48層3D NAND閃存采用3bit/cell多值化技術(shù),容量為32GB,采用15納米工藝,比市面上最優(yōu)秀的商用閃存芯片電路密度提高了2倍、存儲(chǔ)速度提高4-5倍,而能耗將進(jìn)一步降低。并且,因?yàn)椴捎昧?D堆棧技術(shù),新芯片的面積將縮小,非常適合智能手機(jī)、平板電腦之類(lèi)的設(shè)備。據(jù)說(shuō),明年iPhone7很可能會(huì)搭載上述兩家廠商的新型3D NAND閃存芯片。   其實(shí),3D NAND閃存早已不是什么新鮮玩意,因?yàn)槿ツ耆窃缇涂烊艘徊叫剂慨a(chǎn)世界首款3D V-NAND閃存,不同的是三星量產(chǎn)的是3D垂直閃存V-NAND。今天我們就來(lái)具體分析三星的V-NAND閃存。   三星V-NAND:不再縮小cell單元,堆疊更多層數(shù)   3D V-NAND技術(shù)3D是指立體存儲(chǔ),V指的是垂直存儲(chǔ),說(shuō)起來(lái)就是不再追求縮小cell單元,而是通過(guò)3D堆疊技術(shù)封裝更多cell單元,這樣也可以達(dá)到容量增多的目的。   這種變化其實(shí)沒(méi)有說(shuō)起來(lái)這么簡(jiǎn)單。SSD中使用的是浮柵極MOSFET(Floating gate MOSFET),電子儲(chǔ)存在柵極中,它相當(dāng)于一個(gè)導(dǎo)體。這種晶體管的缺點(diǎn)就是寫(xiě)入數(shù)據(jù)時(shí),柵極與溝道之間會(huì)形成一次短路,這會(huì)消耗柵極中的電荷,也就是說(shuō)每次寫(xiě)入數(shù)據(jù)都要消耗一次柵極壽命,一旦柵極中的電荷沒(méi)了,cell單元就相當(dāng)于掛了,不能再存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。   三星的V-NAND閃存就放棄了傳統(tǒng)的浮柵極MOSFET,改用自家的電荷擷取閃存(charge trap flash,簡(jiǎn)稱(chēng)CTF)設(shè)計(jì)。每個(gè)cell單元看起來(lái)更小了,但是里面的電荷是儲(chǔ)存在一個(gè)絕緣層而非之前的導(dǎo)體上的,理論上是沒(méi)有消耗的。這種看起來(lái)更小的電荷有很多優(yōu)點(diǎn),比如更高的可靠性、更小的體積,不過(guò)這些還只是其中的一部分。   使用CTF結(jié)構(gòu)的V-NAND閃存被認(rèn)為是一種非平面設(shè)計(jì),絕緣體環(huán)繞溝道(channle),控制柵極又環(huán)繞著絕緣體層。這種3D結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提升了儲(chǔ)存電荷的的物理區(qū)域,提高了性能和可靠性。   可靠性和性能提升是V-NAND閃存的一個(gè)方面,還有就是3D堆疊。由于三星已經(jīng)可以垂直方向擴(kuò)展NAND密度,那就沒(méi)有繼續(xù)縮小晶體管的壓力了,所以可以使用相對(duì)更舊的工藝來(lái)生產(chǎn)V-NAND閃存,現(xiàn)在使用的是30nm級(jí)別的,介于30-39nm之間。   使用舊工藝的好處就是P/E擦寫(xiě)次數(shù)大幅提升,目前的19/20nm工藝MLC閃存的擦寫(xiě)次數(shù)普遍是3000次,三星的V-NAND閃存可達(dá)35000次,這也是三星說(shuō)可靠性提升2-10倍的由來(lái)。   使用舊工藝甚至也沒(méi)妨礙三星提高NAND密度,三星之前公布的V-NAND是128Gb核心的,目前主流19/20nm工藝的核心容量是64Gb,如果用傳統(tǒng)工藝制造128Gb核心的NAND,那么工藝需要15nm。   更大容量的NAND有著更少的干擾,編程時(shí)間會(huì)更短,這意味著性能會(huì)提高。此外,更大容量的NAND的讀寫(xiě)不需要那么多次的重試,因此總功耗也會(huì)更低。   目前的128Gb核心NAND已經(jīng)很好,不過(guò)這肯定不是終點(diǎn),三星預(yù)計(jì)在2017年實(shí)現(xiàn)每核心1Tb,這都要?dú)w功于3D NAND。此外,理論上三星還可以使用更先進(jìn)的制程工藝來(lái)提高儲(chǔ)存密度,只是這樣做也會(huì)面臨傳統(tǒng)二維NAND結(jié)構(gòu)需要面對(duì)的難題。另外,目前的V-NAND還是2bit MLC,有需要的話三星還可以選擇使用3bit MLC(TLC)來(lái)進(jìn)一步提高儲(chǔ)存密度。   閃存新技術(shù)的應(yīng)用和推廣,代表著整個(gè)閃存產(chǎn)業(yè)的最高技術(shù)水平,也將SSD的性能和運(yùn)行速度又進(jìn)行了一次全面提升。對(duì)消費(fèi)者利好的就是,我們未來(lái)可以看到SSD在儲(chǔ)存密度、性能及可靠性上的改進(jìn),還有使用電子設(shè)備的體驗(yàn)性會(huì)更好。

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