英特爾表示并不擔(dān)心AMD在7nm節(jié)點上領(lǐng)先，他們的14nm工藝在2019年依然有優(yōu)勢
最近一段時間，英特爾公司因為10nm工藝難產(chǎn)的問題被推上了風(fēng)口浪尖，副總裁此前已經(jīng)強(qiáng)調(diào)10nm工藝的問題只是良率問題，正在解決，而他們的14nm工藝依然有潛力可挖。
不過這并不能緩解市場對英特爾的焦慮，CEO科再奇今天在主持2018年股東大會時也被問到了這些問題，他強(qiáng)調(diào)7nm工藝不會遇到10nm工藝的難產(chǎn)問題，同時并不擔(dān)心AMD在7nm節(jié)點上領(lǐng)先，他們的14nm工藝在2019年依然有優(yōu)勢。
分析師關(guān)心最多的一個問題就是英特爾在10nm節(jié)點上的延遲是否會影響未來的7nm工藝，對此英特爾CEO科再奇表示他們在10nm工藝上遇到的問題絕大多數(shù)都不會影響7nm進(jìn)展，因為10nm工藝是英特爾在沒有EUV光刻工藝情況下開發(fā)的，而7nm將是英特爾首次使用EUV光刻工藝，它能給晶圓制造帶來更多優(yōu)勢，比如制造小得多的晶體管，這是他們的10nm與7nm工藝的第一個不同之處。
此外，英特爾在7nm節(jié)點上也有不同的目標(biāo)，此前的文章中我們也提高過英特爾解釋為何10nm這么難產(chǎn)的原因，主要就是他們定的目標(biāo)太高了，相比14nm工藝的換算因素達(dá)到了2.7x，所以在7nm節(jié)點上英特爾目標(biāo)換算因素只有2.4x，回到了之前的水平，而業(yè)界通常的標(biāo)準(zhǔn)是1.5到2。
科贊奇表示目標(biāo)降低之后，7nm工藝帶來的挑戰(zhàn)就像他們傳統(tǒng)工藝創(chuàng)新一樣（順利），因此英特爾公司在10nm節(jié)點遭遇的多數(shù)問題都不會重現(xiàn)在7nm節(jié)點上。
英特爾將繼續(xù)監(jiān)視7nm工藝的進(jìn)展，并對他們的7nm工藝保持樂觀。
對于分析師擔(dān)心的AMD在7nm節(jié)點比英特爾更早量產(chǎn)而帶來的競爭優(yōu)勢時，英特爾CEO科再奇表達(dá)了他對該公司14nm工藝的絕對自信，他認(rèn)為英特爾的14nm工藝的性能還有很大改進(jìn)余地，英特爾不僅會在客戶端領(lǐng)域，在數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域依然能保持領(lǐng)先。
科再奇表示他們對（14nm性能領(lǐng)先）非常自信，2019年已經(jīng)計劃推出更加激進(jìn)的領(lǐng)先性產(chǎn)品，同時他們也不會放棄在2019年繼續(xù)改進(jìn)10nm良率的問題，總之他對英特爾的路線圖感覺很滿意，認(rèn)為英特爾正在推出史上最好的路線圖之一。
Q:英特爾公司的 10nm 工藝存在什么問題？
A:英特爾公司的 10nm 工藝存在良率問題。
Q:英特爾副總裁對 10nm 工藝問題怎么看？
A:副總裁強(qiáng)調(diào) 10nm 工藝的問題只是良率問題，正在解決。
Q:英特爾 CEO 對 7nm 工藝有何看法？
A:英特爾 CEO 科再奇表示 7nm 工藝不會遇到 10nm 工藝的難產(chǎn)問題，對 7nm 工藝保持樂觀。
Q:10nm 工藝與 7nm 工藝有哪些不同？
A:10nm 工藝是英特爾在沒有 EUV 光刻工藝情況下開發(fā)的，7nm 將是英特爾首次使用 EUV 光刻工藝，能制造小得多的晶體管。
Q:英特爾在 7nm 節(jié)點上的目標(biāo)換算因素是多少？
A:英特爾在 7nm 節(jié)點上目標(biāo)換算因素只有 2.4x。
Q:為什么英特爾 10nm 工藝難產(chǎn)？
A:主要是他們定的目標(biāo)太高了，相比 14nm 工藝的換算因素達(dá)到了 2.7x。
Q:英特爾 CEO 對 AMD 在 7nm 節(jié)點領(lǐng)先有何看法？
A:英特爾 CEO 科再奇表示不擔(dān)心 AMD 在 7nm 節(jié)點上領(lǐng)先，對英特爾的 14nm 工藝有絕對自信。
Q:英特爾在 2019 年有哪些計劃？
A:英特爾在 2019 年計劃推出更加激進(jìn)的領(lǐng)先性產(chǎn)品，同時繼續(xù)改進(jìn) 10nm 良率。
Q:英特爾 CEO 對英特爾路線圖滿意嗎？
A:英特爾 CEO 科再奇對英特爾的路線圖感覺很滿意，認(rèn)為英特爾正在推出史上最好的路線圖之一。